第278章 浸没式光刻机

光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又名光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。

最早的光刻技术出现于1822年，起初是法国人JosephNicephoreniepce（涅普斯）试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕。

他先将油纸放在一块玻璃片上，在上面涂满了一种在植物油中溶解的沥青，经过一段时间的暴晒之后，透光部分的沥青就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。

这项发明出现的很早，将其使用于制造印刷电路板却已经是100多年后的故事了。

也就是二十世纪末。

随着发展，光刻机需要的光源波长，一降再降。

从二十世纪90年代开始，光刻机竞争的主战场成为了光源波长的竞争。

光源波长从365nm降低到了193nm，对应的制程也从800~250nm减小到130~65nm。

随着摩尔定律的推进，下一个节点157nm波长的光源却一直没做出来。

到了2002年7月，才有台积电的林姓博士在布鲁塞尔举办的157nm微影技术研讨会上提出了“浸润原理”

的专题演讲。

在传统的光刻技术中，镜头与光刻胶之间的介质是空气，林本坚提出的这种方法就是在光刻胶上方加一层水，利用光通过液体介质后波长缩短来提高分辨率，这个方法后来被称为“浸没式光刻”

，采用这种方法能够在不改变光刻机波长的情况下做出等效134nm的波长。

唐缺要弄的，也就是这个浸没式光源。

最好，是能在阿斯麦之前，做出浸没式光刻机。

确定了方案之后，两家欢喜，十几家愁。

他们都知道，如果这两个实验室真的建起来，相关专业的教授，有福了。

论文不愁。

本章未完，点击下一页继续阅读